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簡要描述:物理化學(xué)研究用溫度機組升降溫機組對溫度控制的需求極為多樣,從超低溫催化反應(yīng)到高溫高壓合成,需要兼具寬溫域、高精度、快速響應(yīng)和多環(huán)境兼容性的升降溫機組
詳細介紹
物理化學(xué)研究用溫度機組升降溫機組選型,價格,方案等與江蘇康士捷機械設(shè)備有限公司溝通,多案例供參考。
康士捷生產(chǎn)的工業(yè)控溫設(shè)備有高溫型(5℃~35℃)、中溫型(-5℃~-40℃)、低溫型(-40℃~-80℃)、超低溫型(-150℃~-80℃)、冷熱兩用型(-150℃~+300℃)等系列產(chǎn)品供貴司選用。制冷量大小都有,有防爆型,防腐型,撬裝式,變頻型等。接受非標(biāo)定做。溫度穩(wěn)定性±0.1℃等可選。
以下列出部分參數(shù),貴司參數(shù)溝通選型后確認。
物理化學(xué)研究對溫度控制的需求極為多樣,從超低溫催化反應(yīng)到高溫高壓合成,需要兼具寬溫域、高精度、快速響應(yīng)和多環(huán)境兼容性的升降溫機組。以下是針對物理化學(xué)研究的專業(yè)化溫度控制設(shè)備技術(shù)方案:
1. 核心需求分類
研究類型 | 典型溫度范圍 | 關(guān)鍵要求 |
低溫催化反應(yīng) | -80℃~+300℃ | 精確控溫(±0.1℃)、惰性氣氛保護 |
電化學(xué)原位測試 | -40℃~+200℃ | 防腐蝕設(shè)計、三電極體系集成 |
2. 系統(tǒng)架構(gòu)設(shè)計
(1) 模塊化溫控單元
低溫模塊:
復(fù)疊式壓縮機制冷(-80℃)
可選磁制冷(無振動,適合敏感測量)
高溫模塊:
電阻爐(300℃)+ 水冷夾套(防過熱)
(2) 傳熱介質(zhì)系統(tǒng)
低溫區(qū)間:
硅油(-80℃~+200℃)或液態(tài)金屬(Ga-In合金,導(dǎo)熱系數(shù)>30W/mK)
高溫區(qū)間:
熔鹽(KNO?-NaNO?,最高300℃)或石墨熱場(惰性氣氛)
(3) 環(huán)境控制系統(tǒng)
真空/氣氛腔體(10?? mbar~10MPa)
多路氣體通道(H?/Ar/O?等,質(zhì)量流量計控制)
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